1：名無しさん


日米、最先端半導体で技術協力　2ナノなど開発・量産

日米両政府は最先端の半導体の供給網（サプライチェーン）構築で協力を打ち出す。回路線幅が2ナノ（ナノは10億分の1）メートルより進んだ先端分野での協力や、中国を念頭に置いた技術流出防止の枠組みづくりなどで近く合意する。米中対立を背景に半導体は経済安全保障上の重要性が高まっている。台湾勢などに調達を依存する危機感から日米連携を強化する。

https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUA284KK0Y2A420C2000000/

 

6：名無しさん


アメリカ様のお許しが出たら強気で行けるな
そもそも台湾だ中国だ韓国に技術渡さなくいけなくなったのはアメリカのせいだし
円安効果もあるし返り咲きもあるかも

 

10：名無しさん


台湾有事想定かな
まあ相当なリスク抱えてるよね

 

11：名無しさん


原子層が0.5nmくらいだっけ

 

152：名無しさん

>>11
シリコン原子1個が約0.1nm
10個で1nm


14：名無しさん


日本は半導体そのものはやられたが薬品とか製造装置とか最強クラスだもんな

 

13：名無しさん


NTTの光半導体はどうなってるの？

 

166：名無しさん

>>13
それとこれは別


17：名無しさん


ｷﾀ━━━━(ﾟ∀ﾟ)━━━━!!

 

18：名無しさん


なんっ日本の半導体潰したかね？
上手く付き合えば米にも利益あったのに

 

19：名無しさん


そのための円安か

 

24：名無しさん

>>19
そりゃそうよ
日本の半導体関連企業の3月期決算と第一四半期決算みてみ？
円安の影響でどこも増収増益だからw


26：名無しさん


円安はアメリカからのボーナスだったかー

 

27：名無しさん


EUVではやられっぱなしだったから露光取り返したいな

 

28：名無しさん


でもオランダの露光装置が無いと作れないんだろ？

 

172：名無しさん

>>28
2nmはどこもこれからだろ


82：名無しさん

>>28
けっきょく投資の規模だな。技術者はナショナリストでもなきゃ渡り職人みたいなとこあるし。儲かるところに集まる。


85：名無しさん

>>82
半導体のエンジニアはプロスポーツ選手みたいなもんだしな。
経産省がそれを学んだのかどうか。


153：名無しさん

>>28
そうなん。
日本も得意じゃねえの？その辺って。


200：名無しさん

>>153
日本も得意”だった”
EUV露光は開発費用が巨額すぎて一社では到底賄えないのでオランダのASMLは
議決権がない優先株を出してそれをTSMCやSamsungに引き受けさせて費用を用意した

日本ではニコンがこれをやってたけどIntel専任みたいな状態になっていて、
他社からの要望が出ても対応できないと切っていたらいざ費用出してくれる企業を募集しても来なかったｗ
ニコンに断られたニッチな変更を引き受けていたのがASMLなのでニコンは対応を間違えた


41：名無しさん


大日印がインテルのEUVマスクブランクスとキャノンの判子担当してるから

 

40：名無しさん


円安で着実に工場が戻って来てるな
TSMCもソニーも新工場作るし資生堂や日清は新工場作ったし
マツダやデンソーは製造ライン増設するし
工場戻って来ないとか嘘じゃん

 

48：名無しさん

>>40
そのデンソーやアイシンが史上最高の売上だったし、パヨクが円高で産業転換は言うが円安て転換しろと言わない上に高業績に黙りだしなw


44：名無しさん

>>40
デンソーはウエハーから作る
ガチの半導体製造事業者になるわ


49：名無しさん


前回みたいな体たらくにならないよう
政権がポンコツすぎて半導体をただの石ころって思わずにきちんと国家基盤を成す戦略物資として扱えるようにしてほしいもんだわ・・・

 

84：名無しさん


これで円安も進めば日本も半導体大国になれるかもな

 

91：名無しさん


中国にいつ攻められるか分からない国と中国の属国が半導体でシェア持ってるのはリスクしかないわ

 

101：名無しさん


2ナノの線幅って計算したら1ミリの幅に50万本の線が引けるサイズなんだな

 

190：名無しさん


遅ればせながらやっと味方を見極めたか
反省しろアメリカ

 

207：名無しさん


TSMCどころかSamsungレベルもないじゃん半導体生産に関しての力は両国ともw

 

215：名無しさん

>>207
表向きの商品はね
でも半導体の前処理に関する製造技術では日本アメリカＥＵで世界ほぼ制覇してるのよ
ここ止めたら何も作れんのよ実は


213：名無しさん

>>207
ちなみにTSMCとSamsungが最先端半導体の製造に必須の基幹技術
Ruバリアメタルって10nm以下の半導体の製造には必須の、
小さく細くなりすぎた配線に電流すことで起こる熱抵抗を下げるこれはアメリカIBMが持つ特許
どれくらい必須なのかというとこの特許を使えないINTELがその2社に一人負けするくらい使わないと話にならない


219：名無しさん


線幅の心配してる人が多いけど深さは数μmあるからね
さらに高アスペクト比になるから露光機以上にエッチャーの性能が必要になるけどLamがなんとかしてくれるのか

 

221：名無しさん


2nもASMLのEUVで行けるんか？

 

223：名無しさん

>>221
いける
2010年頃には10nm以下は配線の熱抵抗のせいでプロセス開発が難しくなることは予想されていたけど、
これを解決したIBMのRuバリアメタルが凄すぎて次に壁になると言われていた3nmも今TSMCがリスク生産やってるくらい

ただし2nmまでは意味があるけど2nm→1nmはウェハーから取れる数が増えるだけで性能的な意味の向上が期待されていない
代わりにまったく新しい素材が必要になるけどシリコンウェハーの後継はまだどこも開発できていない


231：名無しさん


微細化の次と目される積層？は日本が強いんだろ？

 

267：名無しさん


熊本は、半導体特需だな。
ニュースで、進出企業の報道をよくやってる。
道路や住宅街の建設とか、あっちの方は景気が良い。